研究用高純度シリコンウェハー

特徴
●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。
グループ説明
●製造方法:CZ法
●面方位:100
●OF位置:110
●抵抗値:0.1~100Ω・cm
●パーティクル:2-960-01~06/パーティクル不問、 2-960-51~60/0.3um、10個以下
備考
※特注対応品:●方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
●多様な形状加工と表面処理が可能です。(例:ざくり加工品、穴あけ加工品、酸化膜付きウェハー)
●ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
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- WEB価格 5,828円(税抜)
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- WEB価格 5,640円(税抜)
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- WEB価格 85,050円(税抜)
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- WEB価格 97,200円(税抜)
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- WEB価格 97,200円(税抜)
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- WEB価格 113,400円(税抜)
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- WEB価格 6,768円(税抜)
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- WEB価格 7,332円(税抜)
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- WEB価格 82,800円(税抜)
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- 出荷目安 2025年05月01日
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- WEB価格 12,972円(税抜)
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- WEB価格 82,800円(税抜)
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- WEB価格 98,100円(税抜)
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- WEB価格 161,100円(税抜)
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