研究用高純度シリコンウェハー 6×P型

商品

特徴

・研究用高純度シリコンウェハー 6×P型

仕様

サイズ(インチ)×伝導型:6×P型
OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):47.5±2.5×625±25
製造方法:CZ法
面方位:100
OF位置:110
抵抗値:0.1~100Ω・cm
パーティクル:パーティクル不問
入数:1枚
特注対応品について
1方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差を、より小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
2多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざくり加工品、穴あけ加工品、酸化膜付きウェハー)。
3ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
48インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください。

個人宅宛の配送について

※配送先が個人宅宛の場合、 ご注文のキャンセル又は出荷まで+3営業日ほどお時間をいただく場合がございます。