研究用高純度シリコンウェハー 2×N型(25枚)

商品

特徴

●研究・開発用として実績があり、高純度材料を用いたウェハーを少量からご提供。

仕様

サイズ(インチ)×伝導型:2×N型
OF長さ(mm)×ウェハー厚(μm):17.5±2.5×280±25
入数:1箱(25枚入)
製造方法:CZ法
面方位:100
OF位置:110
抵抗値:0.1~100Ω・cm ※低抵抗:≦0.02Ω・cm、高抵抗:≧500Ω・cm
パーティクル:≧0.3μm、10個以下
※特注対応品:
▼方位(切断角度)、OF位置角度公差、厚み公差をより小さく高精度に加工することができ、エッチングでの正確な溝形成が可能となります。
▼多様な形状加工と表面処理が可能です(例:ざぐり加工、穴あけ加工、酸化膜付きウェハー)。
▼ご希望の比抵抗率、ウェハー厚みに合わせた対応が可能です。
▼8インチ、12インチに関しては随時お問い合わせください。

個人宅宛の配送について

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